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7nm光刻机产能(11月17日7nm光刻机最好的技术)

发布时间:2023-12-17 05:30:23编辑:成楠梵来源:

导读 大家好,我是华网在线火狐来为大家解答以上问题,7nm光刻机产能,11月17日7nm光刻机最好的技术很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!不...

大家好,我是华网在线火狐来为大家解答以上问题,7nm光刻机产能,11月17日7nm光刻机最好的技术很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!

不是,最好的4纳米。

光刻机本身最高的应该是euv极紫外光光源波长的光刻机,其波长为13.5纳米。用euv光刻机可以制造22纳米以下制程的芯片,目前最高可商业量产芯片的制程为4纳米,分别是高通骁龙8移动平台系列和联发科天玑9000。而未商业量产阶段的芯片最高可以到3纳米制程。

7nm光刻机最好的技术

不是,目前5nm是最好技术

阿斯麦目前的极紫外光刻机,包括TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,这两款极紫外光刻机,可用于生产7nm和5nm的芯片,后者是最新推出的,去年共交付了9台。

本文到此结束,希望对大家有所帮助。

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